電子ビーム露光装置における照射位置の高さ設定方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：秋田収喜
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-206819
公開番号（公開出願番号）：特開平5-047648
出願日： 1991年08月19日
公開日（公表日）： 1993年02月26日
要約：

【要約】【目的】電子ビーム露光装置における照射位置の高さ設定方法において、多少起伏がある試料においても、所定の照射位置精度を確保すること。【構成】露光する試料の高さを測定し、その高さ情報に基づき照射位置の高さを設定して露光を行う電子ビーム露光装置の照射位置の高さ設定方法であって、領域外の複数の位置の高さを測定し、その高さ情報を用いて補間演算により照射位置の高さを設定することを最も主要な特徴とする。また、前記露光領域外の複数の位置が、層間の重ね合わせに用いるマークの近傍であることを特徴とする。【効果】多少起伏がある試料においても、所定の照射位置精度を確保するので、ビーム照射位置のずれを小さく抑えることができる。

請求項（抜粋）：

露光する試料の高さを測定し、その高さ情報に基づき照射位置の高さを設定して露光を行う電子ビーム露光装置において、露光領域外の複数の位置の高さを測定し、その高さ情報を用いて補間演算により照射位置の高さを設定することを特徴とする電子ビーム露光装置における照射位置の高さ設定方法。

引用特許：

審査官引用 (2件)

特開昭59-107512
特開昭61-034936

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