特許
J-GLOBAL ID：200903067683670572
排気ガス浄化装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
永田 良昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-151676
公開番号（公開出願番号）：特開平7-332073
出願日： 1994年06月08日
公開日（公表日）： 1995年12月19日
要約：
【要約】【目的】排気ガス中のHCを吸着するHC吸着剤に対して、アロマ分浄化効果の高いPd(パラジウム)を成分に有する三元触媒を所定間隔を隔てて近接配置することで、冷間時に排出された未燃HCをHC吸着剤で一旦吸着させ、HC吸着剤の温度上昇によりHC吸着剤から放出された未燃HCを上述のPdを成分に有する三元触媒で燃焼浄化させ、特に排気ガス中の成分の約半分を占めるアロマ分を良好に浄化することができ、またHC吸着剤とPdを成分に有する三元触媒を所定間隔を隔てて近接配置することで、高温条件下におけるHC吸着剤と三元触媒との間の反応を防止して、両者(HC吸着剤および三元触媒)の耐熱性向上を図る。【構成】エンジンの排気系に介設される排気ガス浄化装置であって、排気ガス中のHCを吸着するHC吸着剤10に対して、少なくともPdを成分に有する三元触媒11が所定間隔を隔てて近接配置されたことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
エンジンの排気系に介設される排気ガス浄化装置であって、排気ガス中のHCを吸着するHC吸着剤に対して、少なくともPdを成分に有する三元触媒が所定間隔を隔てて近接配置された排気ガス浄化装置。
IPC (5件)：
F01N 3/24 ZAB
, B01D 53/04 ZAB
, B01D 53/86 ZAB
, B01D 53/94
, F01N 3/08 ZAB
B01D 53/36 ZAB
, B01D 53/36 103 Z
