特許
J-GLOBAL ID：200903067693545253
グラファイト及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-206705
公開番号（公開出願番号）：特開2005-053719
出願日： 2003年08月08日
公開日（公表日）： 2005年03月03日
要約：
【課題】従来知られていなかったような高品質のグラファイトを得ること。【解決手段】多層押出によって得られる5μm以下の超薄膜の高分子フィルム、具体的には、ポリイミド、ポリオキサジアゾール、ポリパラフェニレンビニレン、ポリベンゾイミダゾール、ポリベンゾオキサゾール、ポリチアゾール、ポリアミド、から選ばれた少なくとも一種の高分子を含むフィルムを、2400°C以上の高温処理によって直接高品質グラファイトに転化する事により、グラファイトa-b面方向の電気伝導度が25000S/cm以上であるグラファイトを得る。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
多層押出によって製造された高分子フィルムから得られる、25°Cにおけるa-b面方向の電気伝導度が25000S/cm以上であるグラファイト。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C01B31/04 101Z
, H01B1/04
4G146AA02
, 4G146AB07
, 4G146AC20A
, 4G146AC20B
, 4G146AD22
, 4G146BA13
, 4G146BA15
, 4G146BB06
, 4G146BC04
, 4G146BC35A
, 4G146BC35B
, 5G301BA02
, 5G301BE01
