特許

J-GLOBAL ID：200903067708193650

パターン形成方法

発明者： 淡路 則之 ,  豊田 治 ,  別井 圭一
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 野河 信太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-228404
公開番号（公開出願番号）：特開平11-067072
出願日： 1997年08月25日
公開日（公表日）： 1999年03月09日
要約：

【要約】【課題】 埋め込み法によりパターンを形成する方法において、感光性材料の焼成により残存する灰分等の残渣を除去することを課題とする。【解決手段】 基体上に感光性材料からなる所定の凹凸を有するパターンを形成し、凹部に低融点ガラスペーストを埋め込み、焼成することにより感光性材料を除去した後、酸性水溶液で前記焼成により形成される感光性材料に由来する残渣を除去することにより凹部に低融点ガラスからなるパターンを形成することを特徴とするパターン形成方法により上記課題を解決する。

請求項（抜粋）：

基体上に感光性材料からなる所定の凹凸を有するパターンを形成し、凹部に低融点ガラスペーストを埋め込み、焼成することにより感光性材料を除去した後、酸性水溶液で前記焼成により形成される感光性材料に由来する残渣を除去することにより、凹部形状に対応した低融点ガラスのパターンを形成することを特徴とするパターン形成方法。