特許

J-GLOBAL ID：200903067710336990

光ディスク原盤の製造方法

発明者： 工藤 譲
出願人/特許権者： 株式会社リコー
代理人 (1件)： 柏木 慎史 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-364229
公開番号（公開出願番号）：特開2001-184733
出願日： 1999年12月22日
公開日（公表日）： 2001年07月06日
要約：

【要約】【課題】 トラックピッチの狭い大容量・高密度の光ディスクを成形する光ディスク原盤を確実に得ることができる光ディスク原盤の製造方法を得る。【解決手段】 水溶性樹脂膜2をその水溶性樹脂膜2上のフォトレジスト膜3に形成された凹部5aをマスクにしてエッチングすることにより、水溶性樹脂膜2にエッチングにより形成される溝6の溝幅をフォトレジスト膜3に形成された凹部5aの底幅と略同一にするとともに、水溶性樹脂膜2にエッチングにより形成される溝6の形状を矩形形状にすることができる。また、フォトレジスト膜3の除去前にフォトレジストカバー膜7を形成し、フォトレジスト膜3とフォトレジストカバー膜7とを同時に除去することにより、水溶性樹脂膜2に形成された溝6を保護することができる。これにより、トラックピッチの狭い大容量・高密度の光ディスクを成形する光ディスク原盤を確実に得ることができる。

請求項（抜粋）：

所定パターンの溝を有する光ディスクを成形するための光ディスク原盤の製造方法であって、オゾン処理された基板上に水溶性樹脂を塗布して前記溝の深さに略同一な膜厚の水溶性樹脂膜を形成する第一工程と、前記水溶性樹脂膜上にフォトレジストを塗布した後に加熱・乾燥してフォトレジスト膜を形成する第二工程と、光ビームによって露光することにより前記フォトレジスト膜に前記所定パターンの潜像を形成する第三工程と、前記フォトレジスト膜に形成された前記潜像を現像液によって現像することにより、そのフォトレジスト膜に前記所定パターンの溝に略同一の底部を有する台形形状の凹部を形成する第四工程と、前記現像液とその現像液を洗浄するための純水との少なくともいずれか一方により、前記フォトレジスト膜に形成された前記凹部の底部をマスクにして前記水溶性樹脂膜をエッチングして断面形状が矩形形状の前記所定パターンの溝を作成する第五工程と、エッチングされた前記水溶性樹脂膜およびその水溶性樹脂膜上に残留する前記フォトレジスト膜上にフォトレジストを塗布した後に加熱・乾燥してフォトレジストカバー膜を形成する第六工程と、前記フォトレジストカバー膜と前記水溶性樹脂膜上に残留する前記フォトレジスト膜とを剥離液により除去して前記所定パターンの溝を有するスタンパ原盤を作成する第七工程と、前記スタンパ原盤上に導電皮膜を形成する第八工程と、前記導電皮膜上に金属層を電鋳により形成する第九工程と、前記前記スタンパ原盤上に形成された前記金属層を剥離して前記所定パターンの溝とは凹凸を逆転させた光ディスク原盤を作成する第十工程と、を含んでなる光ディスク原盤の製造方法。

Fターム (8件)：

5D121BB02 ,  5D121BB08 ,  5D121BB25 ,  5D121BB33 ,  5D121BB34 ,  5D121GG14 ,  5D121GG16 ,  5D121GG18