特許

J-GLOBAL ID：200903067712206309

光学システムにおける収差を検出するための方法および装置

発明者： ジャン ファン チェン
出願人/特許権者： アスムル マスクツールズ ネザーランズ ビー.ブイ.
代理人 (1件)： 浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-402407
公開番号（公開出願番号）：特開2002-231626
出願日： 2001年12月04日
公開日（公表日）： 2002年08月16日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 光学リソグラフィ・システムで利用される投影レンズに関連する収差を検出する方法を提供すること。【解決手段】 この方法は、基板上にリソグラフィ・パターンを転写するためのマスクを形成するステップと、マスク上に配設される複数の分解不可能フィーチャを形成するステップであって、複数の分解不可能フィーチャが、基板上に所定のパターンを形成するように配置されているステップと、マスクを基板上にプリントするために光学露光ツールを使用してマスクを露光するステップと、収差があるかどうか判定するために、基板上に形成された所定パターンの位置、およびマスク上に配設された複数の分解不可能フィーチャの位置を解析するステップとを含む。基板上に形成された所定パターンの位置が、複数の分解不可能フィーチャの位置から求められた予想位置と異なる場合、予想位置からのこのずれが収差の存在を示す。

請求項（抜粋）：

リソグラフィ投影装置において利用される光学システムに関連する収差を検出する方法であって、放射線の投影ビームを供給するための放射システムと、パターニング手段を支持するための支持構造であって、前記パターニング手段が所望のパターンに従って投影ビームにパターンを付ける働きをする支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、前記パターンを付けられたビームを基板のターゲット部分に投影するための投影システムとを備え、前記光学システムが放射システムと投影システムの少なくとも一方を備えており、複数の分解不可能フィーチャを有するモニタを備えるように前記所望のパターンを提供するステップであって、前記複数の分解不可能フィーチャが、基板上に投影されたときに所定のテスト・パターンを形成するように配置されているステップと、投影システムを使用して基板上にモニタを投影するステップと、収差があるかどうか判定するために、前記所定テスト・パターンの位置、およびモニタでの前記複数の分解不可能フィーチャの位置を解析するステップとを含む方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G01M 11/02 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/20 521

FI (5件)：

G01M 11/02 B ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 A ,  H01L 21/30 502 P

Fターム (3件)：

2G086HH06 ,  2H095BA01 ,  2H095BB03