特許
J-GLOBAL ID：200903067724193024
膜厚および溝深さ検出装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-251362
公開番号（公開出願番号）：特開平7-103717
出願日： 1993年10月07日
公開日（公表日）： 1995年04月18日
要約：
【要約】【目的】加工状態にあるマスク膜の膜厚と加工溝の溝深さをインプロセスで測定すること。【構成】一例としてイオンミリング装置では、イオンビーム7が試料1に入射することで加工が行われるが、加工中にレーザ光源2から偏光子3を通してレーザ光を試料1に入射する一方で、被加工面からの反射光強度を測定することで試料1に形成された膜厚および溝深さの測定が可能となる。特に、P偏光光を被加工材のブルースター角で入射してマスク厚を計測し、入射角を操作してS偏光光を入射して反射回折光強度のピーク角度を測定することで高精度なマスク厚および加工溝深さの計測が可能となる。
請求項（抜粋）：
加工状態にある、格子状のマスク膜と加工溝を持つ被加工材からなる被検物の、膜厚および溝深さ検出装置において、被検物に可干渉光を照射する発光素子と、該可干渉光の偏光方向を制御する偏光素子と、被加工材のブルースター角を含む角度範囲に入射角度を操作する手段と、被検物からの高次回折光を含む反射光を検出する受光素子と、受光素子で検出した回折光強度から膜厚および溝深さを算出する演算部からなることを特徴とする膜厚および溝深さ検出装置。
IPC (2件)：
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