特許
J-GLOBAL ID：200903067725315174

第2級ブタノール製造用反応器

発明者：
内山 正一

内山 正一 について


出願人/特許権者：
出光興産株式会社

出光興産株式会社 について


代理人 (1件)： 渡辺 喜平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-055962
公開番号（公開出願番号）：特開2007-230937
出願日： 2006年03月02日
公開日（公表日）： 2007年09月13日
要約：
【課題】第2級ブタノールをより効率的に製造するための反応器及び製造方法を提供する。【解決手段】ヘテロポリ酸水溶液を触媒として用い、n-ブテンを直接水和する第2級ブタノールの製造用反応器であって、反応器内部にヘテロポリ酸水溶液を循環させる循環機構を有することを特徴とする第2級ブタノールの製造用反応器。循環機構としてはインナー配管が好ましい。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ヘテロポリ酸水溶液を触媒として用い、n-ブテンを直接水和する第2級ブタノールの製造用反応器であって、 反応器内部にヘテロポリ酸水溶液を循環させる循環機構を有することを特徴とする第2級ブタノールの製造用反応器。
IPC (3件)：
C07C 29/04 ,  C07C 31/12 ,  B01J 3/00
FI (3件)：
C07C29/04 ,  C07C31/12 ,  B01J3/00 B
Fターム (13件)：
4H006AA02 ,  4H006AA04 ,  4H006AC41 ,  4H006BA14 ,  4H006BA33 ,  4H006BA75 ,  4H006BC10 ,  4H006BC11 ,  4H006BD81 ,  4H006BD84 ,  4H006FE11 ,  4H039CA60 ,  4H039CF10
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (3件)

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