特許
J-GLOBAL ID：200903067741378259
表面放出ガスサンプリング装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
特許業務法人岡田国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-347740
公開番号（公開出願番号）：特開2007-155385
出願日： 2005年12月01日
公開日（公表日）： 2007年06月21日
要約：
【課題】 表面放出ガスの放出を阻害させず、かつ表面放出ガスのサンプリング結果について従来よりも精度を高められるようにする。【解決手段】 少なくとも物体の表面の一部を覆うかまたは内部に入れた状態で容器内外のガスが流出入しないように出入口部で密着する保持部材(バッグ固定部48)を備えた貯留用容器(サンプリングバッグ34)と、保持部材による密着の圧力を検出する圧力センサ46と、当該密着の圧力を制御する圧力制御手段(プログラマブルコントローラ12)と、クリーンガスを貯留用容器に通気して残留ガスを追い出して洗浄するガス洗浄手段(12)と、残留ガスを追い出してから所定期間内に表面から放出された表面放出ガスを貯留用容器で貯留するガス貯留手段(12)と、所定期間を経過した後に貯留用容器から保存用容器(保存バッグ52)に表面放出ガスを導出するガス導出手段(12)とを有する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
物体の表面から放出された表面放出ガスを保存用容器に保存するための表面放出ガスサンプリング装置であって、
少なくとも物体の表面の一部を覆うかまたは内部に入れることができ、当該覆った状態または入れた状態で容器内外のガスが流出入しないように出入口部で密着する保持部材を備えた貯留用容器と、
前記保持部材による密着の圧力を検出する圧力センサと、
前記圧力センサで検出した圧力が所定範囲内になるように、密着の圧力を制御する圧力制御手段と、
前記表面放出ガスと反応しないクリーンガスを前記貯留用容器に通気し、残留ガスを追い出して洗浄するガス洗浄手段と、
前記残留ガスを追い出してから所定期間内に物体の表面から放出された表面放出ガスを前記貯留用容器で貯留するガス貯留手段と、
前記所定期間を経過した後、前記貯留用容器から前記保存用容器に表面放出ガスを導出するガス導出手段とを有する表面放出ガスサンプリング装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (30件)：
2G045CB09
, 2G045DA80
, 2G052AA28
, 2G052AA37
, 2G052AB12
, 2G052AB22
, 2G052AB27
, 2G052AC12
, 2G052AD13
, 2G052AD22
, 2G052AD42
, 2G052BA14
, 2G052CA02
, 2G052CA12
, 2G052DA13
, 2G052DA14
, 2G052DA22
, 2G052FC04
, 2G052FC11
, 2G052GA23
, 2G052GA27
, 2G052HA02
, 2G052JA04
, 2G052JA09
, 2G052JA11
, 4C117XA01
, 4C117XB01
, 4C117XC11
, 4C117XD05
, 4C117XE03
