特許
J-GLOBAL ID:200903067741651320

急速熱処理用炉

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 杉村 暁秀 (外5名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-528579
公開番号(公開出願番号):特表2000-505961
出願日: 1997年12月08日
公開日(公表日): 2000年05月16日
要約:
【要約】ウェーハ(7)の急速熱処理に用いる炉(1)を記載する。この炉において、ウェーハ(7)をランプ(9)により加熱し、熱放射を、加熱段階中には反射性状態にある光学的切換装置(15、17)により反射する。ウェーハ(7)の冷却段階中には、熱を、熱吸収状態にある切換装置(15、17)により吸収する。この切換装置は、水素交換により水素化物を形成することができる3価の金属、例えばガドリニウムの切換フィルムを有する。水素化物の水素濃度に依存して、フィルムは熱を反射するかまたは吸収する。切換フィルム中の水素含有量を、水素分圧を変化させるか、または好ましくは、電気化学的電池中の層の積み重ねの一部を形成する切換フィルムの電位を変化させることにより、変化させることができる。
請求項(抜粋):
ウェーハの急速熱処理用の炉であって、ハウジング内に、 ウェーハを支持する手段と、 熱放射をウェーハに反射することができる熱制御手段と、 ウェーハと熱制御手段との間に位置する、熱放射を発生するための手段と を備えた急速熱処理用炉において、 熱制御手段が、水素化物を形成することができる3価の金属を含む切換フィルムを有する光学的切換装置を備え、このフィルムを、水素を交換することにより、熱反射性状態である第1の状態から黒色の熱吸収状態または透明状態である第2の状態へと可逆的に切り換えることができることを特徴とする、ウェーハの急速熱処理用の炉。
IPC (4件):
H01L 21/26 ,  F27B 17/00 ,  F27D 11/02 ,  G02F 1/15 506
FI (4件):
H01L 21/26 G ,  F27B 17/00 B ,  F27D 11/02 Z ,  G02F 1/15 506

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