特許
J-GLOBAL ID：200903067761492724
走査露光方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-114196
公開番号（公開出願番号）：特開平8-037150
出願日： 1995年05月12日
公開日（公表日）： 1996年02月06日
要約：
【要約】【目的】 走査露光方式で露光する際に、走査速度を低くすることなく、正確にオートフォーカスを行うと共に、ウエハ表面の高さが大きく変化するような場合にも、全体としてオートフォーカスの追従精度を悪化させない。【構成】 露光フィールド24内の計測領域25C、及びそれに対して計測方向に手前側の先読み領域25Dで計測したフォーカス位置に基づいてZレベリングステージ4を介してウエハ5のオートフォーカスを行う。この際に、先読みされたフォーカス位置と結像面39のフォーカス位置との差ΔZの絶対値が許容値を超えるときには、その先読みされたデータを無視してウエハ5の高さをそれまでに設定されていた高さに固定する。
請求項（抜粋）：
マスク上の転写用のパターンの一部を投影光学系を介して感光性の基板上の所定形状の露光領域に投影し、前記マスクを前記投影光学系に対して所定方向に走査するのと同期して前記基板を前記所定方向に対応する方向に走査することにより、前記マスクのパターンを逐次前記基板上に転写露光する走査露光方法において、前記露光領域に対して走査方向に手前側の計測点で前記基板の前記投影光学系の光軸方向の高さを先読みし、該先読みされた高さに基づいて前記露光領域内の前記基板の高さを制御するに際して、前記先読みされた高さが前記投影光学系の結像面に対して所定の許容範囲を超えて外れたときに、前記基板の高さをそれまでに設定されていた高さに固定することを特徴とする走査露光方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03B 27/72
, G03F 7/207
H01L 21/30 518
, H01L 21/30 526 Z
