特許
J-GLOBAL ID：200903067763926608
銅膜形成基材の製造法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小堀 貞文
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-103161
公開番号（公開出願番号）：特開平6-093455
出願日： 1991年04月08日
公開日（公表日）： 1994年04月05日
要約：
【要約】【目的】 蟻酸銅をより低温で熱分解して銅膜形成基材を得る。【構成】 基材と蟻酸銅とを共存させ、減圧下又は非酸化性雰囲気中で蟻酸銅を熱分解して銅膜の形成された基材を製造する方法において、パラジウムを共存させて蟻酸銅の熱分解を行うことを特徴とする銅膜形成基材の製造法
請求項（抜粋）：
基材と蟻酸銅とを共存させ、減圧下又は非酸化性雰囲気中で蟻酸銅を熱分解して銅膜の形成された基材を製造する方法において、パラジウムを共存させて蟻酸銅の熱分解を行うことを特徴とする銅膜形成基材の製造法
IPC (2件)：
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