特許

J-GLOBAL ID：200903067767083788

基板処理装置

発明者： 木村 義弘
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 間宮 武雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-264564
公開番号（公開出願番号）：特開2000-100893
出願日： 1998年09月18日
公開日（公表日）： 2000年04月07日
要約：

【要約】【課題】 基板搬送ロボットにより基板を処理槽間で搬送する際に、基板表面の酸化を抑え、基板表面において酸化状態に差を生じたり酸化物のしみが生成されたりすることを防止できる装置を提供する。【手段】 処理槽10の上方に高さ位置を固定して遮蔽ボックス32を設け、遮蔽ボックスを、下面が開放されるとともにチャック部14に保持されて上下方向へ往復移動するウエハWを完全に収納する大きさの筐体状に形成し、遮蔽ボックスをウエハ搬送ロボット12と共に水平方向へ移動させるようにし、遮蔽ボックスの内部へ窒素ガスを供給して遮蔽ボックスの内部空間を窒素ガスで満たすガス供給手段を設けた。

請求項（抜粋）：

処理液を収容し、その処理液中に基板が浸漬させられて基板の処理が行われる処理槽と、基板を保持する基板保持部、ならびに、この基板保持部を上下方向へ往復移動させて前記処理槽内の処理液中に基板を浸漬させおよび処理液中から基板を引き上げるための昇降機構を有し、水平方向へ移動して基板の搬送を行う基板搬送ロボットと、を備えた基板処理装置において、前記処理槽の上方に高さ位置を固定して配置され、下面が開放されるとともに前記基板保持部に保持されて前記処理槽内の処理液中から引き上げられた基板を完全に収納する大きさの筐体状に形成され、前記基板搬送ロボットと共に水平方向へ移動する遮蔽ボックスを設け、その遮蔽ボックスの内部へ不活性ガスを供給して遮蔽ボックスの内部空間を不活性ガスで満たすガス供給手段を具備したことを特徴とする基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/68 ,  B08B 3/04 ,  H01L 21/304 648 ,  H01L 21/306

FI (4件)：

H01L 21/68 A ,  B08B 3/04 A ,  H01L 21/304 648 C ,  H01L 21/306 J

Fターム (22件)：

3B201AA03 ,  3B201AB24 ,  3B201AB44 ,  3B201BB02 ,  3B201BB93 ,  3B201BB94 ,  3B201CB15 ,  3B201CD11 ,  5F031BB01 ,  5F031BB04 ,  5F031BC02 ,  5F031BC03 ,  5F031CC12 ,  5F031CC61 ,  5F031KK02 ,  5F031KK06 ,  5F031LL03 ,  5F043DD30 ,  5F043EE35 ,  5F043EE36 ,  5F043EE40 ,  5F043GG10