特許
J-GLOBAL ID：200903067771806662
フラックス残渣からのイオン成分除去方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-061028
公開番号（公開出願番号）：特開平5-245622
出願日： 1992年02月18日
公開日（公表日）： 1993年09月24日
要約：
【要約】【目的】 はんだ付け後にフラックス残渣中に残っている腐食や絶縁抵抗低下の原因となるイオン成分を除去し、信頼あるはんだ付け部にする。【構成】 はんだ付け後、被はんだ付け物を100〜180°Cの温度に再加熱することにより、フラックス残渣中に残っていたイオン成分を熱で揮散させる。
請求項（抜粋）：
はんだ付け終了後、被はんだ付け物を100〜180°Cの温度で再加熱することを特徴とするフラックス残渣からのイオン成分除去方法。
IPC (3件)：
B23K 1/00
, H05K 3/34
, B23K101:42
