特許
J-GLOBAL ID:200903067779673866
ネガ型感光性樹脂組成物およびその用途
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-270214
公開番号(公開出願番号):特開2003-076017
出願日: 2001年09月06日
公開日(公表日): 2003年03月14日
要約:
【要約】【課題】 ?@ 高感度・高解像度の感光性を発現するポリイミドまたはポリアミド酸及びシランカップリング剤を含有することを特徴とする、耐熱性、接着特性に優れた新規なネガ型感光性樹脂組成物を提供すること ?A ?@のネガ型感光性樹脂組成物を含んでなるフォトレジスト、絶縁膜、そして該絶縁膜を表面保護膜や層間絶縁膜として含む高集積半導体装置、高集積多層配線基板を提供すること。【解決手段】 ?@ (a)一般式(I)で表される繰り返し単位を有するポリイミドまたは一般式(III)で表される繰り返し単位を有するポリアミド酸100重量部、及び(b)シランカップリング剤0〜5重量部を含有することを特徴とするネガ型感光性樹脂組成物。【化14】【化15】?A ?@のネガ型感光性樹脂組成物を含むフォトレジスト、絶縁膜、及び絶縁膜の製造方法。
請求項(抜粋):
(a)一般式(I)で表される繰り返し単位を有するポリイミド100重量部、及び(b)シランカップリング剤0〜5重量部を含有することを特徴とするネガ型感光性樹脂組成物。【化1】(式中、aは0<a<100の範囲内の有理数であり、樹脂中の共重合比を示す。mは1〜20の整数であり、繰り返し単位数を示す。R1〜R4は、それぞれ独立して、水素原子または炭素原子数1〜20のアルキル基を示し、R5及びR6は、それぞれ独立して、炭素原子数1〜20のアルキレン基を示す。Zは縮合多環式芳香族基または次式(II)【化2】からなる群より選ばれた少なくとも1種の基である。ただし、Xは-CO-または-C(=N<SB>2</SB>)-を示し、Yは直接結合、-CH<SB>2</SB>-、-O-、-SO<SB>2</SB>-、-S-、-CO-、または-C(=N<SB>2</SB>)-を示す。nは各々独立して0または1の整数を示す。)
IPC (5件):
G03F 7/038 504
, G03F 7/075
, G03F 7/075 501
, G03F 7/40 501
, H01L 21/027
FI (5件):
G03F 7/038 504
, G03F 7/075
, G03F 7/075 501
, G03F 7/40 501
, H01L 21/30 502 R
Fターム (30件):
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA10
, 2H025AA14
, 2H025AB15
, 2H025AB16
, 2H025AB17
, 2H025AC01
, 2H025AD01
, 2H025BD29
, 2H025BD40
, 2H025BD52
, 2H025CC06
, 2H025EA04
, 2H025EA10
, 2H025FA03
, 2H025FA15
, 2H025FA29
, 2H096AA25
, 2H096AA26
, 2H096AA27
, 2H096BA06
, 2H096BA20
, 2H096CA12
, 2H096DA01
, 2H096EA02
, 2H096GA02
, 2H096GA03
, 2H096HA01
, 2H096JA04
引用特許:
出願人引用 (6件)
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特開昭59-216330
-
ポリイミドおよびポリアミド酸
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-127671
出願人:三井化学株式会社
-
特開昭59-219330
-
特開昭57-143329
-
特開昭58-191747
-
i線照射によるレリーフ構造体の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-124383
出願人:チバ-ガイギーアクチエンゲゼルシャフト, オーシージーミクロエレクトロニクスインコーポレーテッド
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審査官引用 (6件)
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特開昭59-216330
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ポリイミドおよびポリアミド酸
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-127671
出願人:三井化学株式会社
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特開昭59-219330
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特開昭57-143329
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特開昭58-191747
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i線照射によるレリーフ構造体の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-124383
出願人:チバ-ガイギーアクチエンゲゼルシャフト, オーシージーミクロエレクトロニクスインコーポレーテッド
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