特許

J-GLOBAL ID：200903067780722587

ヒ酸イオンの除去方法

発明者： 浜野 誠一 ,  芦谷 俊夫 ,  山西 修
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-159713
公開番号（公開出願番号）：特開平10-005744
出願日： 1996年06月20日
公開日（公表日）： 1998年01月13日
要約：

【要約】【課題】 廉価かつ簡便な方法で、ヒ酸含有液中よりヒ素換算0.01mg/l以下の低濃度まで、ひ酸イオンを吸着除去する方法を提供する。【解決手段】 ヒ酸を含有する液中より、ヒ酸イオンを吸着剤を用いて除去するに際し、吸着剤として、磨耗率が1%以下で平均粒子径が0.1mm〜1.8mmの球状活性アルミナを用い、該活性アルミナに対し該ヒ酸含有液を、接触時間2〜60分で通液する。

請求項（抜粋）：

ヒ素換算で1mg/l以下のヒ酸を含有する液中より、ヒ酸イオンを吸着剤を用いて除去する方法において、吸着剤として、磨耗率が1%以下で平均粒子径が0.1mm〜1.8mmの球状活性アルミナを用い、該活性アルミナに対し該ヒ酸含有液を、接触時間2〜60分で通液することを特徴とするヒ酸イオンの除去方法。

IPC (2件)：

C02F 1/28 ,  B01D 15/00

FI (2件)：

C02F 1/28 E ,  B01D 15/00 P

引用特許：

出願人引用 (2件)

• ヒ酸イオンの除去方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-229371   出願人：住友化学工業株式会社
• 特開昭55-132633