特許

J-GLOBAL ID：200903067783209910

露光方法及び露光装置並びにデバイスの製造方法及びデバイス

発明者： 村上 雅一
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-131761
公開番号（公開出願番号）：特開2001-313246
出願日： 2000年04月28日
公開日（公表日）： 2001年11月09日
要約：

【要約】【課題】 基板吸着時に生じる基板の変形を抑制し、露光精度の向上を図るとともに、デバイスの信頼性を向上させることができる露光方法及び露光装置を提供する。【解決手段】 基板ステージ23に基板Pを吸着し、マスクRのパターンを基板Pの露光領域に転写する露光方法において、基板Pに対して吸着対象の領域を露光領域に応じて特定し、特定した対象領域を基板ステージ23に吸着する。

請求項（抜粋）：

基板ステージに基板を吸着し、マスクのパターンを基板の露光領域に転写する露光方法において、基板に対して吸着対象の領域を前記露光領域に応じて特定し、該特定した対象領域を前記基板ステージに吸着することを特徴とする露光方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00

FI (4件)：

G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 503 C ,  H01L 21/30 515 G

Fターム (9件)：

5F046BA04 ,  5F046CC10 ,  5F046CC13 ,  5F046DA05 ,  5F046EB07 ,  5F046ED01 ,  5F046FA16 ,  5F046FC05 ,  5F046FC08