溶射皮膜形成方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：矢葺知之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-020282
公開番号（公開出願番号）：特開平5-214505
出願日： 1992年02月05日
公開日（公表日）： 1993年08月24日
要約：

【要約】【目的】溶射皮膜欠陥の一つであるスピッティング(未溶融粒子、溶射ガン付着粒子等の溶射皮膜内への巻き込み)欠陥を防止し、溶射品質安定化並びに廉価な溶射方法を提供するものである。【構成】溶射と同時に、Ra 1μmからRa 15μmの範囲で表面加工を施し、皮膜積層することを特徴とした皮膜欠陥のない溶射皮膜形成方法。

請求項（抜粋）：