特許
J-GLOBAL ID：200903067804388004
レーザビーム照射装置およびレーザビーム照射方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
加藤 恭介
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-079399
公開番号（公開出願番号）：特開平8-252684
出願日： 1986年09月24日
公開日（公表日）： 1996年10月01日
要約：
【要約】【課題】 被加工物上におけるレーザビームのパワー密度を一定に保つようにして、被加工面の安定した加工が行える小型のレーザビーム照射装置。【解決手段】 レーザビームは、被加工物(8) における加工面の中心部に対して直角に照射して、反射ミラー(4) 、(13)によって加工面の全域を走査する。可変式フィルタ(10)は、被加工物(8) における加工面の中心部を照射する際に、レーザビームのパワー密度を最小の透過率にする。また、予め、前記可変式フィルタ(10)の透過率と、レーザビームの照射位置との関係が予め記憶されているデータべースとがマイクロ・コンピュータ(12)に入力されている。マイクロ・コンピュータ(12)は、上記データべースによって、前記可変式フィルタ(10)の透過率をレーザビーム照射位置に従って変化させ、前記加工面の全域におけるレーザビームのパワー密度を一定に制御する。
請求項（抜粋）：
被加工物における加工面の中心部に対して直角に照射するレーザビーム発射装置と、前記レーザビームの照射位置を変えて、前記加工面の全域を走査する反射ミラーと、被加工物における加工面の中心部を照射するレーザビームのパワー密度を最小の透過率にする可変式フィルタと、前記可変式フィルタの透過率と、レーザビームの照射位置との関係が予め記憶されているデータべースと、当該データべースによって、前記可変式フィルタの透過率をレーザビーム照射位置に従って変化させ、前記加工面の全域におけるレーザビームのパワー密度を一定に制御するマイクロ・コンピュータと、を備えていることを特徴とするレーザビーム照射装置。
IPC (2件)：
FI (4件)：
B23K 26/06 E
, B23K 26/06 J
, B23K 26/06 Z
, B23K 26/00 N
