高分子光導波路の製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-109963
公開番号（公開出願番号）：特開2002-303751
出願日： 2001年04月09日
公開日（公表日）： 2002年10月18日
要約：

【要約】【課題】材料の制約が少なく、可撓性のある複雑な形状の光導波路を安価に簡便に製造する高分子光導波路の製造方法を提供する。【解決手段】クラッド層と、該クラッド層上に形成されたコアとを少なくとも有する高分子光導波路の製造方法であって、前記コアは、前記クラッド層上にコア部分形成用組成物をコアとなるべき部分にのみ供給して形成することを特徴とする高分子光導波路の製造方法。好ましくは、前記コア部分形成用組成物をコアとなるべき部分にのみ供給する手段が、インクジェット方式であることを特徴とする高分子光導波路の製造方法。

請求項（抜粋）：

クラッド層と、該クラッド層上に形成されたコアとを少なくとも有する高分子光導波路の製造方法であって、前記コアは、前記クラッド層上にコア部分形成用組成物をコアとなるべき部分にのみ供給して形成することを特徴とする高分子光導波路の製造方法。

Fターム (5件)：

2H047KA04 , 2H047PA01 , 2H047PA02 , 2H047PA28 , 2H047QA05

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