特許

J-GLOBAL ID：200903067816508188

転移体の副生を抑制した(R)-2-ヒドロキシ-1-フェノキシプロパン誘導体の製造法

発明者： 上田 真 ,  川野 茂 ,  堀川 美穂 ,  田岡 直明 ,  八十原 良彦
出願人/特許権者： 鐘淵化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-095938
公開番号（公開出願番号）：特開2002-281991
出願日： 2001年03月29日
公開日（公表日）： 2002年10月02日
要約：

【要約】【課題】 医薬品の中間体として極めて有用な、高品質の(R)-2-ヒドロキシ-1-フェノキシプロパン誘導体を効率よく製造する方法を提供する。【解決手段】 安価原料であるフェノキシアセトン誘導体を微生物由来の酵素あるいは該酵素の産生能を有する微生物の培養物あるいは該処理物を用いてR選択的に還元する反応において、反応pH、温度条件等を制御することにより、(R)-1-ヒドロキシ-2-フェノキシプロパン誘導体の副生量を抑制し、高品質の(R)-2-ヒドロキシ-1-フェノキシプロパン誘導体を製造する。

請求項（抜粋）：

一般式(1);【化1】(式中、Rは置換基を有してもよいフェニル基を表す)で示されるフェノキシアセトン誘導体のカルボニル基をR選択的に還元する能力を有する微生物由来の酵素あるいは該酵素の産生能を有する微生物の培養物あるいは該処理物を用いて、前記式(1)で表されるフェノキシアセトン誘導体をR選択的に還元することにより、一般式(2);【化2】(式中、Rは前記と同じ基を表す)で示される(R)-2-ヒドロキシ-1-フェノキシプロパン誘導体を製造する方法において、一般式(3);【化3】(式中、 Rは前記と同じ基を表す )で示される(R)-1-ヒドロキシ-2-フェノキシプロパン誘導体の副生量が生成物中の比率として2%以下であることを特徴とする(R)-2-ヒドロキシ-1-フェノキシプロパン誘導体の製造法。

IPC (2件)：

C12P 7/22 ,  C12R 1:19

FI (2件)：

C12P 7/22 ,  C12R 1:19

Fターム (5件)：

4B064AC17 ,  4B064CA02 ,  4B064CA11 ,  4B064CB18 ,  4B064DA01