基板洗浄装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：蔦田璋子 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-093734
公開番号（公開出願番号）：特開平8-286177
出願日： 1995年04月19日
公開日（公表日）： 1996年11月01日
要約：

【要約】【目的】基板洗浄終了後にダストが付着しないようにする基板洗浄装置を提供するものである。【構成】基板Kの搬入室12の後に、ブラシ洗浄室14、洗剤洗浄室16、純水洗浄室18、超音波洗浄室20、スピン乾燥室22、ヒータ加熱室26を設け、この後に電荷除去室30を設け、この電荷除去室30に、基板Kの表面上の電荷を測定する静電気測定器32と、この静電気測定器32によって測定した電荷とは逆の電荷を基板Kに印加するイオン発生器34を設けたものである。

請求項（抜粋）：

ガラス基板、配線基板等の基板の洗浄を行う洗浄装置において、前記基板の洗浄工程が終了した後に前記基板における静電気の帯電状態を測定する静電気測定手段と、前記静電気測定手段によって測定した前記基板上に帯電した電荷とは、逆の電荷を前記基板上に印加する電荷印加手段とを有することを特徴とする基板洗浄装置。

IPC (2件)：

G02F 1/1333 500 , B08B 11/04

FI (2件)：

G02F 1/1333 500 , B08B 11/04

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