特許
J-GLOBAL ID：200903067829037362
レーザ加工装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田下 明人 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-110272
公開番号（公開出願番号）：特開平10-277768
出願日： 1997年04月10日
公開日（公表日）： 1998年10月20日
要約：
【要約】【課題】 加工精度が高く、ベンドミラーの総てを交換する必要がないレーザ加工装置を実現する。【解決手段】 エキシマレーザ光源11から発射されたエキシマレーザビーム12はエキスパンダ13を経てホモジナイザ14に入射され、複数のエキシマレーザビームに分割されるとともに、これら分割されたエキシマレーザビームはそれぞれ集光される。ホモジナイザ14から出射されたエキシマレーザビームはマスク15によりノズル加工パターンに対応した形状に形成され、フィールドレンズ16を経てベンドミラー17で反射され、結像光学系18によりノズルプレート19上に結像される。ホモジナイザ14とマスク15との間にベンドミラーが設けられていないため、それらベンドミラーの劣化による加工精度が低下することがなく、かつ、それらベンドミラーの交換も不要である。
請求項（抜粋）：
レーザ発光源と、このレーザ発光源から出射された出射光を分割するとともに、この分割された光をそれぞれ集光するホモジナイザと、このホモジナイザから出射された光を所定形状のパターンに形成して被加工物上に照射するマスクとを備え、前記被加工物上に前記所定形状のパターンを加工するレーザ加工装置において、少なくとも、前記ホモジナイザから前記マスクまでの間には、前記ホモジナイザから出射された光を反射して前記マスクに導く反射手段が設けられていないことを特徴とするレーザ加工装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B23K 26/06 E
, B41J 3/00 Q
