荷電粒子ビーム露光用マスクパターンの矩形/格子データ変換方法及びこれを用いた荷電粒子ビーム露光方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：松本眞吉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-333361
公開番号（公開出願番号）：特開2003-142364
出願日： 2001年10月30日
公開日（公表日）： 2003年05月16日
要約：

【要約】【課題】露光不足領域を発生させず且つマスクパターン寸法精度を確保する。【解決手段】格子パターンのパターン要素の幅をW、パターン要素間のスペース幅をS、格子パターン面積密度をαp、前方散乱強度の最小値をFfmin・αp、該最小値をとる位置をP、W及びSの許容下限値をLminとしたとき、格子パターンの幾何学的関係からαpを関数D(W,S)で表し、エネルギー強度分布関数の前方散乱項を面積分して位置Pでの前方散乱強度を関数E(P:W,S)で表す。与えられたαp、Ffmin及びLminの値に対し(S70)、関係式D(W,S)=αp及びE(P:W,S)=Ffmin・αpを満たすW及びSの値を求め(S71,S72)、W>LminかつS>Lminを満たすように(S73,S75)、矩形パターンを格子パターンに変換し(S74,S76)、境界処理を行う(S78)。

請求項（抜粋）：

荷電粒子ビーム露光により矩形パターン又はその一部の矩形を第1矩形パターンとして感応基板上に実際に又は仮想的に形成する場合に、露光量低減のため該第1矩形パターンに対応したマスク上第2矩形パターンを複数のパターン要素を含む格子パターンに変換する矩形/格子データ変換方法であって、該パターン要素の幅をW、パターン要素間のスペース幅をS、該格子パターンの面積密度をαp、該第1矩形パターン内の前方散乱強度の最小値をFfmin・αp、該最小値をとる位置をPとしたとき、(a)該格子パターンの幾何学的関係から該面積密度αpを関数D(W,S)で表し、エネルギー強度分布関数の前方散乱項を面積分して該位置Pでの前方散乱強度を関数E(P:W,S)で表し、(b)与えられた面積密度αp及び前方散乱強度低下率Ffminの値に対し、関係式D(W,S)=αp及びE(P:W,S)=Ffmin・αpを満たす該パターン要素幅W及びスペース幅Sの値を求める、ことを特徴とする荷電粒子ビーム露光用マスクパターンの矩形/格子データ変換方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 1/16 , G03F 7/20 504

FI (4件)：

G03F 1/16 B , G03F 7/20 504 , H01L 21/30 541 M , H01L 21/30 541 S

Fターム (15件)：

2H095BA01 , 2H095BA08 , 2H095BB02 , 2H097CA16 , 2H097GB00 , 2H097LA10 , 5F056AA06 , 5F056AA22 , 5F056CA05 , 5F056CA11 , 5F056CC12 , 5F056CC13 , 5F056CD13 , 5F056CD15 , 5F056FA05

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