特許

J-GLOBAL ID：200903067829687707

表面処理粉体の製造方法、アミノ変性シリコーン処理粉体及び化粧料

発明者： 鴫原 靖宏 ,  内野 則之 ,  神谷 正人
出願人/特許権者： 東色ピグメント株式会社
代理人 (4件)： 古谷 聡 ,  溝部 孝彦 ,  持田 信二 ,  義経 和昌
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-390160
公開番号（公開出願番号）：特開2004-182729
出願日： 2003年11月20日
公開日（公表日）： 2004年07月02日
要約：

【課題】 化粧品に配合でき、伸展性、付着性、感触、打型成型性、撥水性に優れたアミノ変性シリコーン処理粉体を提供する。 【解決手段】 粉体の表面にアミノ変性シリコーン化合物が粉体に対して0.1〜10重量%被覆された表面処理粉体であって、その製造方法は、メカノケミカル的混合技術の応用による、ずり剪断式低速混練機を用いた常温処理である。 【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

ずり剪断式低速混練機を用い、粉体表面をアミノ変性シリコーンで処理することを特徴とする表面処理粉体の製造方法。

IPC (1件)：

A61K7/035

FI (1件)：

A61K7/035

Fターム (12件)：

4C083AB232 ,  4C083AB242 ,  4C083AB432 ,  4C083AC332 ,  4C083AC842 ,  4C083AD152 ,  4C083AD162 ,  4C083BB25 ,  4C083CC01 ,  4C083CC12 ,  4C083EE06 ,  4C083EE07

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 特許第3079395号
  

審査官引用 (4件)

• 静電像現像トナーおよび静電像現像法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-145486   出願人：東芝ケミカル株式会社
• 紫外線遮蔽性複合微粒子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-044019   出願人：花王株式会社
• 特開平3-115211
  
• 特開昭62-267213