特許
J-GLOBAL ID：200903067830630760
ダイヤモンド膜の成膜方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山口 巖
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-061834
公開番号（公開出願番号）：特開平7-010691
出願日： 1994年03月31日
公開日（公表日）： 1995年01月13日
要約：
【要約】【目的】ダイヤモンド膜合成の際、p形あるいはn形にするため不純物を原料ガスに混合しても、低不純物濃度の際には、不純物が膜中に入らない問題を解決する。【構成】ダイヤモンド膜合成のためのCVD装置の反応器中に、高濃度で不純物を含むガスを用いることによって予め反応器内部に不純物を付着させておくと、低不純物ガス含有の原料ガスを用いて低い不純物濃度でドープされたp形あるいはn形のダイヤモンド膜を成膜できる。
請求項（抜粋）：
反応器中に所期の伝導形の付与に必要な不純物を含む原料ガスを導入してCVD法でダイヤモンド膜を合成する際に、予め反応器の内部に前記不純物を付着させておくことを特徴とするダイヤモンド膜の成膜方法。
IPC (3件)：
C30B 29/04
, C30B 25/02
, H01L 21/205
