特許
J-GLOBAL ID:200903067839197163

写真処理由来の液状残留物の処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石田 敬 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-046992
公開番号(公開出願番号):特開平10-290987
出願日: 1998年02月27日
公開日(公表日): 1998年11月04日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】法規制により、写真処理由来の液状残留物に含まれる有害物質を除去する処理を行わずに水路又は公共下水路中に注ぎ込むことができない液状残留物を処理する方法を提供する。【解決手段】写真処理由来の液状残留物を、必要な場合には希釈した後に、酸素及びオゾンを用いて複数の段階で酸化処理し、そして、pH値を設定し且つ補助物質を添加した後に、沈殿した固形分を酸化処理後の残留物から濾別する写真処理由来の液状残留物の処理方法であって、処理すべき残留物に、(a)酸素酸化工程、(b)酸素支援緩和アノード酸化工程、及び(c)電流強度を工程(b)よりも高くした一層完全なアノード酸化工程を有する三段階酸化処理を施すこと、さらに前記残留物に、(d)それ自体公知の方法であるオゾン処理を施し且つ、(e)沈殿した固形分をそれ自体公知の方法で分離する。
請求項(抜粋):
写真処理由来の液状残留物を、必要な場合には希釈した後に、酸素及びオゾンを用いて複数の段階で酸化処理し、そして、pH値を設定し且つ補助物質を添加した後に、沈殿した固形分を酸化処理後の残留物から濾別する写真処理由来の液状残留物の処理方法であって、処理すべき残留物に、(a) 酸素酸化工程、(b) 酸素支援緩和アノード酸化工程、及び(c) 電流強度を工程(b) よりも高くした一層完全なアノード酸化工程を有する三段階酸化処理を施すこと、さらに前記残留物に、(d) それ自体公知の方法でオゾン処理を施し且つ、(e) 沈殿した固形分をそれ自体公知の方法で分離することを特徴とする方法。
IPC (6件):
C02F 1/72 ZAB ,  C02F 1/00 ,  C02F 1/461 ,  C02F 1/52 ,  C02F 1/78 ,  G03C 5/00
FI (6件):
C02F 1/72 ZAB Z ,  C02F 1/00 L ,  C02F 1/52 K ,  C02F 1/78 ,  G03C 5/00 A ,  C02F 1/46 101 A

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