特許
J-GLOBAL ID：200903067845130011
ガス拡散電極の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-077462
公開番号（公開出願番号）：特開平11-269689
出願日： 1998年03月25日
公開日（公表日）： 1999年10月05日
要約：
【要約】【課題】 製造工程が簡素化され、生産性が高く、かつ高い酸素還元性能を有するガス拡散電極の反応層を製造できるガス拡散電極の製造方法を提供する。【解決手段】 ガス拡散電極の製造方法において、反応層原料及び/又はガス供給層原料をそれぞれ水溶液に分散し、これらの分散液に自己組織化剤を混合し、自己組織化される前の分散液をスプレーして、塗膜化することを特徴とするガス拡散電極の製造方法。一次粒径0.5ミクロン以下の疎水性カーボンブラック微粒子、親水性カーボンブラック微粒子、界面活性剤や、一次粒径0.5ミクロン以下のPTFEディスパージョンとの分散液を用いる。
請求項（抜粋）：
ガス拡散電極の製造方法において、反応層原料及び/又はガス供給層原料をそれぞれ水溶液に分散し、これらの分散液に自己組織化剤を混合し、その混合液をスプレーして、塗膜化することを特徴とするガス拡散電極の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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