特許
J-GLOBAL ID：200903067848934553
スパッタリング装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-143160
公開番号（公開出願番号）：特開平5-314540
出願日： 1992年05月08日
公開日（公表日）： 1993年11月26日
要約：
【要約】【目的】 自公転スパッタリング装置の長所を維持したまま、高生産性、低コスト化を達成する事。【構成】 光ディスク基板を収納する基板ホルダーの多数を円盤上に配置し、該円盤並びに基板ホルダーをそれぞれ回転可能となした回転機構を有し、該基板ホルダー上に収納した光ディスク基板を前記回転機構により自公転させつつ、その表面上へターゲットから該ターゲット原子を飛散させその薄膜を形成するスパッタリング装置において、円盤上に配置した基板ホルダーの個数をn、各一枚の基板ホルダーに収納する光ディスク基板の枚数をNとするとき、該基板ホルダーの回転ギヤと該円盤の回転ギヤとのギヤ比Rを以下の式を満足するように構成したことを特徴とするスパッタリング装置。n/N×M=RここでM=1、2、3、・・・の自然数
請求項（抜粋）：
光ディスク基板を収納する基板ホルダーの多数を円盤上に配置し、該円盤並びに基板ホルダーをそれぞれ回転可能となした回転機構を有し、該基板ホルダー上に収納した光ディスク基板を前記回転機構により自公転させつつ、その表面上ヘターゲットから該ターゲット原子を飛散させその薄膜を形成するスパッタリング装置において、円盤上に配置した基板ホルダーの個数をn、各一枚の基板ホルダーに収納する光ディスク基板の枚数をNとするとき、該基板ホルダーの回転ギヤと該円盤の回転ギヤとのギヤ比Rを以下の式1を満足するように構成したことを特徴とするスパッタリング装置。 n/N×M=R ・・・・・(1)ここでM=1、2、3、・・・の自然数
IPC (2件)：
引用特許：
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