特許
J-GLOBAL ID：200903067849385553
投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-304524
公開番号（公開出願番号）：特開平8-162391
出願日： 1994年12月08日
公開日（公表日）： 1996年06月21日
要約：
【要約】【目的】 レチクルアライメント光学系、及びウエハアライメント光学系の両方を合焦状態で使用して、レチクルのパターンの露光中心と、ウエハアライメント光学系の検出中心との間隔(ベースライン量)を正確に検出する。【構成】 レチクル2の下方に投影光学系1が配置され、投影光学系1の下方にXYステージ10が配置されている。XYステージ10上に3個の上下動機構9A〜9Cを介してZレベリングテーブル5が載置され、Zレベリングテーブル5上に基準パターン板6とウエハWを保持するウエハホルダ7とが並列に固定されている。基準パターン板6上に、レチクルアライメント光学系4A,4B用の指標マーク18A,18Bと、ウエハアライメント光学系12用の基準マーク17とが形成されている。
請求項（抜粋）：
マスク上の転写用のパターンの像を感光基板上に投影する投影光学系と、前記感光基板を前記投影光学系の光軸に垂直な平面内で移動する基板ステージと、該基板ステージにより前記感光基板と共に移動され、第1及び第2の基準パターンが形成された基準パターン部材と、前記感光基板上に形成された位置合わせ用のマークの位置を計測する基板側のアライメント用計測手段と、前記マスク上に形成された位置合わせ用のマークと前記基準パターン部材上に形成された前記第1の基準パターンとの相対位置関係を前記投影光学系を介して計測するマスク側のアライメント用計測手段と、を有し、前記第1の基準パターンに対する前記マスクの相対的な位置ずれ量を前記マスク側のアライメント用計測手段により計測するのと並行して、前記第2の基準パターンの位置を前記基板側のアライメント用計測手段により計測することにより、前記マスクと前記基板側のアライメント用計測手段との相対的な位置関係を求める投影露光装置において、前記基板ステージ上に、前記基準パターン部材の表面の前記投影光学系の光軸方向の位置、及び傾斜角を調整する高さ傾斜補正テーブルを設けたことを特徴とする投影露光装置。
FI (2件)：
H01L 21/30 515 G
, H01L 21/30 525 B
