特許

J-GLOBAL ID：200903067858159353

半導体製造装置の監視および制御を実行する装置と方法

発明者： クリストファー アール.クラフト
出願人/特許権者： テキサス インスツルメンツ インコーポレイテツド
代理人 (1件)： 浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-043615
公開番号（公開出願番号）：特開平6-168863
出願日： 1992年02月28日
公開日（公表日）： 1994年06月14日
要約：

【要約】【目的】 半導体製造工程を精密に監視しかつ制御する包括的な装置と方法を提供する。【構成】 生産物とマシンのパラメトリック・データを用いた適合モデル工程制御と、リアルタイムの重要装置過渡状態監視による工程制御と、装置過渡状態の重要装置の工程窓作用と、マシン/生産物パラメトリック・データ相関とを用いることにより、生産物処理量が改良される工程制御の装置と方法が得られる。ユーザによって設定された物理的マシン工程処方に独立に、精密なマシン利用度追跡が可能なマシン監視技術が得られる。この装置を用いて、異なる生産物を異なるマシン処方で処理する異なる工場の同等な装置のマシン利用度指数の客観的な解析と比較が可能である。

請求項（抜粋）：

少なくとも1つの半導体処理装置を有する半導体処理工程作業セルと、半導体処理装置モデルおよび技術データを有するコンピュータと、前記処理工程作業セルと前記処理装置との間のインタフェースと、を有し、前記コンピュータにリアル・タイムで前記処理装置の動作パラメータを供給する、半導体製造工程を監視しかつ追跡する装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  H01L 21/02 ,  H01L 21/68 ,  B23Q 41/08 ,  G06F 15/62 405

FI (2件)：

H01L 21/30 301 G ,  H01L 21/30 361 Z

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開昭63-249328