特許

J-GLOBAL ID：200903067858195678

食器洗浄装置

発明者： 原 安夫
出願人/特許権者： ホシザキ電機株式会社
代理人 (1件)： 後呂 和男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-148090
公開番号（公開出願番号）：特開2002-336179
出願日： 2001年05月17日
公開日（公表日）： 2002年11月26日
要約：

【要約】【課題】 すすぎ工程全体に渡ってすすぎに適した温度以上のすすぎ水ですすぎを実行することができ、しかも、電力の浪費や装置の大型化などを防止する。【解決手段】 運転制御装置は、初期給湯動作の実行後、貯湯タンクに規定量のすすぎ水を溜める(S2〜S4)。その際、すすぎ水が設定温度(80°C)を維持するように温度コントロールする。洗浄工程が開始されると(S6,S7)、すすぎ水が設定温度に達した状態で(S8;Y)、温度コントロールを外れて貯湯タンクヒータを強制的にオンする強制加熱を開始する(S9)。これにて、洗浄工程終了後のすすぎ工程の開始時点で(S12)、すすぎ水が設定温度を越えた高温となる。すすぎ工程の進行に伴ってすすぎ水の温度が低下する事情があっても、すすぎに適した規定温度(80°C)以上のすすぎ水ですすぎを工程全体を実行することができ、すすぎ工程終了後、強制加熱がオフされる(S15)。

請求項（抜粋）：

すすぎ水が貯溜される貯湯タンクと、この貯湯タンク内のすすぎ水の温度を検出する温度検出手段と、前記貯湯タンク内のすすぎ水を加熱する加熱手段と、前記温度検出手段の検出に基づいて前記すすぎ水の温度を設定温度に維持するように前記加熱手段を制御する温度コントロール手段とを備え、食器を洗浄水により洗浄する洗浄工程と、洗浄後の食器を前記貯湯タンク内のすすぎ水によりすすぐすすぎ工程とからなる洗浄運転を実行する食器洗浄装置において、前記すすぎ工程の開始時における前記すすぎ水の温度が前記設定温度よりも高温となるように、前記すすぎ水を前記温度コントロール手段の制御を外れて強制的に加熱する強制加熱手段を備えたことを特徴とする食器洗浄装置。

IPC (2件)：

A47L 15/46 ,  A47L 15/42

FI (3件)：

A47L 15/46 H ,  A47L 15/42 N ,  A47L 15/42 P

Fターム (4件)：

3B082BD01 ,  3B082BK03 ,  3B082DC05 ,  3B082EE05

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 食器洗浄機
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-207109   出願人：三洋電機株式会社