特許

J-GLOBAL ID：200903067862504022

面位置検出方法

発明者： 岩井 弘尚 ,  岩本 文男 ,  福本 博文 ,  青山 俊之
出願人/特許権者： 松下電子工業株式会社
代理人 (1件)： 岩橋 文雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-230266
公開番号（公開出願番号）：特開2001-052995
出願日： 1999年08月17日
公開日（公表日）： 2001年02月23日
要約：

【要約】【課題】 ウェハ周辺露光領域において、露光領域の一部がウェハ面外となり面位置の測定点の一部が測定不可となる露光領域においても、ウェハの面位置を高精度に検出することができる面位置検出方法を提供する。【解決手段】 露光領域の一部がウェハ1の面外となるウェハ面周辺露光領域22に対し、ウェハの面内にあって測定が可能な測定点に対応する面位置の平均位置71を求める段階と、露光領域の全体がウェハの面内となるウェハ面内部露光領域21に対し、全測定点の面位置の平均位置72とウェハ周辺露光領域において測定可能な測定点に対応する位置の測定点の面位置の平均位置73との間の差違を求める段階と、前記差違を補正してウェハ面周辺露光領域の面位置を検出する段階とを有する。

請求項（抜粋）：

ウェハの露光領域における投影光学系の光軸方向の位置を前記露光領域内の複数の測定点から検出する方法であって、前記露光領域の一部が前記ウェハの面外となるウェハ面周辺露光領域に対し、前記ウェハ面内にあって測定が可能な測定点の面位置の平均値を求める段階と、前記露光領域の全体が前記ウェハの面内となるウェハ面内部露光領域に対し、前記全測定点の面位置の平均値と前記ウェハ面周辺露光領域における測定可能な測定点に対応する位置にある測定点の平均値との間の差を求める段階と、前記差を補正して前記ウェハ面周辺露光領域の面位置を検出する段階とを経て面位置を検出する面位置検出方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/207

FI (2件)：

H01L 21/30 526 Z ,  G03F 7/207 H

Fターム (5件)：

5F046BA03 ,  5F046DA05 ,  5F046DA14 ,  5F046DB05 ,  5F046DC10