微細加工用レジスト組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-053671
公開番号（公開出願番号）：特開平5-257282
出願日： 1992年03月12日
公開日（公表日）： 1993年10月08日
要約：

【要約】【構成】この発明は、分子構造中にフェノール性の水酸基を含み、かつアルカリ水溶液に可溶性のポリマーと(2)芳香族環に下記の原子団【化1】(ここにR1 、R2 は水素原子または炭素数1〜4個の炭化水素基、R3 、R4は水素原子または炭素数1〜10個の炭化水素基を表わす)が結合した化学構造を分子構造中に含む化合物またはその有機酸もしくは無機酸との塩とから成る微細加工用レジスト組成物である。【効果】この発明によれば、感度および解像度特性が高く、乾式エッチングに優れた耐性をもち、露光後ベーキング工程が不要で、プロセス寛容度が大きいレジスト組成物を得ることができる。

請求項（抜粋）：

(1)分子構造中にフェノール性の水酸基を含み、かつアルカリ水溶液に可溶性のポリマーと(2)芳香族環に下記の原子団【化1】(ここにR1 、R2 は水素原子または炭素数1〜4個の炭化水素基、R3 、R4は水素原子または炭素数1〜10個の炭化水素基を表わす)が結合した化学構造を分子構造中に含む化合物またはその有機酸もしくは無機酸との塩とから成る微細加工用レジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/038 505 , G03F 7/031 , G03F 7/039 501 , H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (2件)

特開昭61-036742
特開昭64-088541

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