特許

J-GLOBAL ID：200903067869264779

屈折率分布型導波路デバイス及びその製造方法

発明者： 井本 克之
出願人/特許権者： 日立電線株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-111085
公開番号（公開出願番号）：特開2000-304952
出願日： 1999年04月19日
公開日（公表日）： 2000年11月02日
要約：

【要約】【課題】高精度屈折率分布のコアを有する導波路デバイスを提供する。【解決手段】基板1の上に、紫外線を照射して所定の屈折率分布が形成された高屈折率のコア層4を有する。

請求項（抜粋）：

基板上に光の伝搬方向に対して屈折率分布をもった高屈折率のフォトブリーチングされたコア層を有し、そのコア層の両側にフォトブリーチングされた低屈折率の側面クラッド層を有し、上記コア層及び側面クラッド層上に低屈折率の上部クラッド層、UVカット層あるいはUV吸収層が順次形成された屈折率分布型導波路デバイス。

IPC (2件)：

G02B 6/122 ,  G02B 6/12

FI (2件)：

G02B 6/12 A ,  G02B 6/12 N

Fターム (11件)：

2H047KA04 ,  2H047KA12 ,  2H047LA02 ,  2H047LA12 ,  2H047PA02 ,  2H047PA22 ,  2H047PA28 ,  2H047QA05 ,  2H047QA07 ,  2H047TA36 ,  2H047TA44