特許

J-GLOBAL ID：200903067870598478

レーザー彫刻用ゴム印材、これを用いるゴム印及びゴム印の製造方法

発明者： 塩山 務 ,  太田 保夫
出願人/特許権者： バンドー化学株式会社
代理人 (1件)： 角田 嘉宏 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-203045
公開番号（公開出願番号）：特開平11-042842
出願日： 1997年07月29日
公開日（公表日）： 1999年02月16日
要約：

【要約】【目的】 パターンのエッジのシャープ性に富むとともに、インクの浸透性に優れるレーザー彫刻用ゴム印材これを用いるゴム印及びゴム印の製造方法を提供すること。【解決手段】 基材ゴムに炭酸カルシウムが配合されたゴム組成物を加硫して、ゴム印材を得る。このゴム組成物は、基材ゴム100グラムに対して配合される炭酸カルシウム量がBET総表面積で40平方メートル以上のものである。従って、このゴム印材の表面をレーザー光で彫刻して得られるゴム印は、パターンのエッジのシャープ性に優れるものである。ゴム組成物には、炭酸カルシウムの配合量に応じた無機塩類が配合され、連続気泡のボリュームが維持される。この結果、ゴム印のインク浸透性が維持される。

請求項（抜粋）：

基材ゴムに炭酸カルシウムが配合されており、その基材ゴム100グラムに対して配合される炭酸カルシウムの量がBET総表面積で40平方メートル以上であるゴム組成物を用いた、レーザー彫刻用ゴム印材。

IPC (3件)：

B41K 1/50 ,  B41C 1/05 ,  B41K 1/02

FI (3件)：

B41K 1/50 B ,  B41C 1/05 ,  B41K 1/02 B