特許
J-GLOBAL ID：200903067876670839
露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉川 晃司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-343971
公開番号（公開出願番号）：特開平10-333337
出願日： 1997年11月27日
公開日（公表日）： 1998年12月18日
要約：
【要約】【課題】従来の露光装置には、塵埃の付着や、露光マスクの自然撓み、アライメント精度の崩れ、サイズの大型化等の問題があった。【解決手段】外筐143内を仕切り壁147で前側空間149と後側空間151とに仕切り、前側空間には上下方向へ移動する垂直保持ベース29やマスク保持機構21L、21R、プリアライメント機構195等を配置し、この垂直保持ベース等の駆動手段は後側空間に設けた。垂直保持ベースの左右両吸着面には垂直姿勢にされたプリント基板材11が順次載せ替えられて両面露光される。前側空間の下部としての受渡し室155においては、プリント基板材のプリアライメント、垂直保持ベースへの着脱を行い、前側空間の上部としての露光室157においては露光と載替えを行う。プリント基板材と露光マスク43を垂直姿勢にして処理を行うので塵芥付着や露光マスクの自然撓みは殆ど無く、平面的サイズも小さく、作業も一方向からできる。
請求項（抜粋）：
被露光板の露光処理面を所定の露光パターンが形成された露光マスクを通して露光する露光装置であって、供給されて来た被露光板を垂直な姿勢で受け取るワーク保持面を有した垂直保持ベースと、露光マスクを前記垂直保持ベースに保持された被露光板に対して接触離間自在に且つ位置合わせ自在に支持した露光マスク支持手段と、露光を行うための光学系とを備え、垂直保持ベースは被露光板を受け取るピックアップ位置と露光マスク支持手段に対向した露光位置との間を相対的に移動することを特徴とする露光装置。
IPC (3件)：
G03F 7/20 521
, H01L 21/027
, H05K 3/00
G03F 7/20 521
, H05K 3/00 H
, H01L 21/30 503 G
, H01L 21/30 506 N
, H01L 21/30 507 T
, H01L 21/30 508 A
, H01L 21/30 511
