特許

J-GLOBAL ID：200903067898371070

集束イオンビーム加工装置

発明者： 饗場 利明
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 若林 忠 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-252788
公開番号（公開出願番号）：特開2000-091314
出願日： 1998年09月07日
公開日（公表日）： 2000年03月31日
要約：

【要約】【課題】 試料の加工状況を検知して適切なタイミングで加工を終了させる。【解決手段】 イオン光学装置1で集束したイオンビーム2を試料3の配線4の加工部5でスキャンさせることにより、加工部5を深さ方向にエッチングして断線させる。電気抵抗測定装置21は、試料3の配線4の電気抵抗値を測定し、イオンビーム加工による配線4の断線に伴う電気抵抗の変動を検出する。イオンビーム加工工程と電気抵抗測定工程とを交互に繰り返し、測定した電気抵抗値が基準値に到達したら試料が断線したと判断し、制御装置20がイオン光学装置1を制御して、イオンビーム2をファラデーカップ8側に偏向させ続け集束イオンビーム加工を終了する。

請求項（抜粋）：

イオンビームを集束させて試料に照射して加工を施す集束イオンビーム加工装置において、前記試料の電気抵抗値を測定する電気抵抗測定装置を有することを特徴とする集束イオンビーム加工装置。

IPC (3件)：

H01L 21/3065 ,  B23K 15/00 508 ,  H01J 37/305

FI (3件)：

H01L 21/302 D ,  B23K 15/00 508 ,  H01J 37/305 A

Fターム (12件)：

4E066BA13 ,  4E066BB04 ,  4E066BC00 ,  5C034BB09 ,  5F004AA16 ,  5F004BA17 ,  5F004CB08 ,  5F004DA00 ,  5F004DB00 ,  5F004DB08 ,  5F004EA39 ,  5F004EB02