特許
J-GLOBAL ID：200903067907194836
X線マスクブランク及びその製造方法並びにX線マスクの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤村 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-034353
公開番号（公開出願番号）：特開平11-219899
出願日： 1998年01月30日
公開日（公表日）： 1999年08月10日
要約：
【要約】【課題】 低応力かつ面内の応力が均一であるスパッタ膜を得ることができ、したがって、極めて高い位置精度を有するX線マスクを製造できるX線マスクブランクの製造方法等を提供する。【解決手段】 基板上に少なくともX線吸収体膜を含むスパッタ膜を形成する工程を有するX線マスクブランクの製造方法であって、前記スパッタ膜を形成する工程において、スパッタ膜が形成される基板の基板温度を測定すると同時に基板温度を調整しながらスパッタ成膜を行い、X線マスクブランクを製造する。スパッタ中の基板温度の測定は、例えば基板30の裏面側に設置した蛍光体センサー21によって行う。
請求項（抜粋）：
基板上に少なくともX線吸収体膜を含むスパッタ膜を形成する工程を有するX線マスクブランクの製造方法であって、前記スパッタ膜を形成する工程において、スパッタ膜が形成される基板の基板温度を測定しながらスパッタ成膜を行うことを特徴とするX線マスクブランクの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 531 M
, G03F 1/16 A
