特許

J-GLOBAL ID：200903067912154508

露光装置

発明者： 柳澤 通雄
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-164783
公開番号（公開出願番号）：特開2002-359177
出願日： 2001年05月31日
公開日（公表日）： 2002年12月13日
要約：

【要約】【課題】 精度に大きな影響を与える構造体の回転運動挙動の適正な制御を実現して、高性能な露光装置を提供する。【解決手段】 レチクル102の移動手段であるレチクルステージ101、及びウエハ104の移動手段であるウエハステージ103を搭載した構造体105を有し、構造体105は複数のマウント106〜108で設置床110から支持され、該マウント106〜108はそれぞれエアアクチュエータとリニアモータを有し、構造体105には回転角速度検出手段を搭載し、該回転角速度検出手段の出力信号で前記リニアモータ及びエアアクチュエータを制御することが可能な制御回路を有し、紫外線光やレーザ光を用いてレチクル102のパターンをウエハ104に焼き付ける。

請求項（抜粋）：

露光光を用いて原版のパターンを基板に焼き付ける露光装置において、前記原版の移動手段である原版ステージ、及び前記基板の移動手段である基板ステージを搭載した構造体を有し、該構造体はマウントで設置床から支持され、該マウントは流体アクチュエータとリニアモータを有し、前記構造体には回転角速度検出手段を搭載し、該回転角速度検出手段の出力信号で前記リニアモータ及び前記流体アクチュエータの少なくともいずれかを制御することが可能な制御回路を有することを特徴とする露光装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  F16F 15/027 ,  F16F 15/03 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/68

FI (6件)：

F16F 15/027 ,  F16F 15/03 G ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/68 K ,  H01L 21/30 503 F ,  H01L 21/30 502 G

Fターム (33件)：

3J048AA03 ,  3J048AB13 ,  3J048BA24 ,  3J048BD05 ,  3J048BE02 ,  3J048BE09 ,  3J048CB13 ,  3J048DA05 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031CA07 ,  5F031GA36 ,  5F031HA55 ,  5F031JA22 ,  5F031JA45 ,  5F031LA02 ,  5F031MA27 ,  5F031MA28 ,  5F031MA31 ,  5F031PA04 ,  5F046AA23 ,  5F046AA28 ,  5F046BA05 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC03 ,  5F046CC16 ,  5F046CC18 ,  5F046DA09 ,  5F046DB04 ,  5F046DB10 ,  5F046DC10 ,  5F046DD06