特許
J-GLOBAL ID：200903067915841476
大気圧プラズマ処理装置、大気圧プラズマ処理方法、基材、光学フィルム、及び画像表示素子
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-184803
公開番号（公開出願番号）：特開2003-003268
出願日： 2001年06月19日
公開日（公表日）： 2003年01月08日
要約：
【要約】【課題】 電極汚れを抑制して、生産性に優れた大気圧プラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 対向する電極間に基材を位置させ、さらに反応ガス及び不活性ガスを含有する大気圧又は大気圧近傍の気体を存在させて高周波電圧を印加して放電プラズマを発生させ、前記基材の表面処理を行う大気圧プラズマ処理装置において、前記電極の一方の電極は前記基材と接触するように配置し、かつ、他方の電極が前記放電プラズマ中の示すイオン極性と異なる極性となる時間よりも前記放電プラズマ中の示すイオン極性と同じ極性となる時間が長くなるように前記高周波電圧を調整して印加することを特徴とする大気圧プラズマ処理装置。
請求項（抜粋）：
大気圧又は大気圧近傍の圧力下において、対向する電極間に基材を位置させ、さらに反応ガス及び不活性ガスを含有する気体を存在させて高周波電圧を前記電極間に印加することより放電プラズマを発生させ、前記基材の表面処理を行う大気圧プラズマ処理装置において、前記電極のうち一方の電極は前記基材と接触するように配置し、かつ、他方の電極が前記放電プラズマ中の示すイオン極性と異なる極性となる時間よりも前記放電プラズマ中の示すイオン極性と同じ極性となる時間が長くなるように前記高周波電圧を調整することを特徴とする大気圧プラズマ処理装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 16/509
, H05H 1/46 M
4K030AA04
, 4K030AA06
, 4K030AA11
, 4K030CA17
, 4K030FA03
, 4K030JA06
, 4K030JA09
, 4K030JA10
, 4K030JA18
, 4K030KA22
, 4K030KA30
, 4K030LA18
