特許

J-GLOBAL ID：200903067924451265

基板洗浄方法とその装置

発明者： 村井 剛 ,  小中 敏典
出願人/特許権者： エム・セテック株式会社
代理人 (1件)： 森 義明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-124349
公開番号（公開出願番号）：特開平8-290136
出願日： 1995年04月24日
公開日（公表日）： 1996年11月05日
要約：

【要約】【目的】 本発明方法の目的は、洗浄効果が非常に高く且つ洗浄液が周囲に霧散しない画期的な基板洗浄方法を開発することにある。【構成】 回転している基板(1)と前記基板(1)の少なくとも一方の面に近接して配設された超音波発生体(イ)(ロ)との間に洗浄液を流し、前記洗浄液に超音波振動を与えて基板(1)の表面の付着物を除去する』事を特徴とする。

請求項（抜粋）：

被洗浄用の基板の少なくとも一方の面に近接して超音波発生体が配設され、前記基板と超音波発生体との間に洗浄液を流し、前記洗浄液に超音波発生体から超音波振動を与えて基板表面の付着物を除去する事を特徴とする基板洗浄方法。