特許

J-GLOBAL ID：200903067930559620

洗浄除去剤及び洗浄方法

発明者： 池本 浩一 ,  沼田 学 ,  菅野 純二
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社 ,  クリーンケミカル株式会社 ,  株式会社エイケン
代理人 (1件)： 藤川 忠司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-239843
公開番号（公開出願番号）：特開2003-049197
出願日： 2001年08月07日
公開日（公表日）： 2003年02月21日
要約：

【要約】【課題】 各種電子部品や機械部品等の半田付け後の表面に固着した半田フラックス残渣及び油脂の如き有機質の汚れを確実に除去でき、これら部品の金属表面に酸化腐食を生じにくい洗浄除去剤を提供する。【解決手段】 a)3-メトキシ・3-メチル・1-ブタノールと、b)N-メチル・2-ピロリドンと、c)ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、2-メルカプトベンゾチアゾール、2-メルカプトベンゾイミダゾール、チオ尿素の群より選ばれる少なくとも一種の腐食抑制剤成分と、d)水溶化1-メチル-4-イソプロペニル-1-シクロヘキセンとを必須の成分として含有する。

請求項（抜粋）：

a)3-メトキシ・3-メチル・1-ブタノールと、b)N-メチル・2-ピロリドンと、c)ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、2-メルカプトベンゾチアゾール、2-メルカプトベンゾイミダゾール、チオ尿素の群より選ばれる少なくとも一種の腐食抑制剤成分と、d)水溶化1-メチル-4-イソプロペニル-1-シクロヘキセンとを必須の成分として含有する洗浄除去剤。

IPC (9件)：

C11D 7/60 ,  B08B 3/08 ,  B23K 1/00 ,  C11D 7/24 ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/32 ,  C11D 7/34 ,  C11D 7/50 ,  H05K 3/26

FI (9件)：

C11D 7/60 ,  B08B 3/08 Z ,  B23K 1/00 Y ,  C11D 7/24 ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/32 ,  C11D 7/34 ,  C11D 7/50 ,  H05K 3/26

Fターム (23件)：

3B201AA01 ,  3B201AA48 ,  3B201BB01 ,  3B201BB83 ,  3B201CC01 ,  4H003DA15 ,  4H003DB00 ,  4H003DC04 ,  4H003EB09 ,  4H003ED03 ,  4H003ED29 ,  4H003ED31 ,  4H003ED32 ,  4H003FA01 ,  4H003FA03 ,  4H003FA15 ,  4H003FA28 ,  4H003FA45 ,  5E343BB54 ,  5E343CC23 ,  5E343EE02 ,  5E343FF23 ,  5E343GG11