特許
J-GLOBAL ID：200903067937951348
光ディスク基板の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 俊一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-150959
公開番号（公開出願番号）：特開平5-182260
出願日： 1992年06月10日
公開日（公表日）： 1993年07月23日
要約：
【要約】【目的】 高密度記録されピットサイズが小さくても、基板上に形成されたピットの転写性のよい光ディスク基板の製造方法を提供すること。【構成】 熱可塑性樹脂を射出成形して光ディスク基板を製造する際に、得られる基板の直径をD(cm)、厚みをt(mm)としたときに、射出成形時の充填時間(T(秒))が下記の範囲にあることを特徴とする光ディスク基板の製造方法。2.0×(0.001×D+0.005×D0.5)×t/1.2≦T≦12.0×(0.001×D+0.005×D0.5)×t/1.2
請求項（抜粋）：
熱可塑性樹脂を射出成形して光ディスク基板を製造する際に、得られる基板の直径をD(cm)とし、厚みをt(mm)としたときに、射出成形時の充填時間(T(秒))が下記の範囲にあることを特徴とする光ディスク基板の製造方法。2.0×(0.001×D+0.005×D0.5)×t/1.2≦T ≦12.0×(0.001×D+0.005×D0.5)×t/1.2
IPC (6件)：
G11B 7/26 521
, B29C 45/00
, B29C 45/46
, G11B 7/24 526
, C08G 61/06 NLG
, B29L 11:00
