特許
J-GLOBAL ID：200903067966091358
陰極構造体および過酸化水素の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-228097
公開番号（公開出願番号）：特開2000-064081
出願日： 1998年08月12日
公開日（公表日）： 2000年02月29日
要約：
【要約】【課題】 電解法による過酸化水素の製造において、カーボンフェルト等の多孔質炭素電極の高い効率を活かしながら、撥水化技術を工夫することにより、気体-液体-固体の接触面積を増加させる方法を提案することを課題とする。【解決手段】 陰極室と陽極室とがカチオン交換膜で隔てられ、陰極で酸素還元反応を行う電解層における陰極構造体であって、多孔質炭素層と導電性粒子を含有する多孔質疎水性樹脂層とが積層された陰極構造体。多孔質炭素層がカーボン繊維集合体であり、多孔質疎水性樹脂層がカーボン粉末を含有するフッ素系樹脂層が良い。
請求項（抜粋）：
陰極室と陽極室とがカチオン交換膜で隔てられ、陰極で酸素還元反応を行う電解層における陰極構造体であって、多孔質炭素層と導電性粒子を含有する多孔質疎水性樹脂層とが積層された陰極構造体。
IPC (3件)：
C25B 11/03
, C25B 1/30
, C25B 11/12
C25B 11/03
, C25B 1/30
, C25B 11/12
4K011CA00
, 4K011DA01
, 4K021AA01
, 4K021AB01
, 4K021AB15
, 4K021CA02
, 4K021CA15
