特許
J-GLOBAL ID：200903067967906509
液晶表示素子の多層液晶層製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
八田 幹雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-328836
公開番号（公開出願番号）：特開平6-347818
出願日： 1993年12月24日
公開日（公表日）： 1994年12月22日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 多層化された液晶層を有する電界型液晶表示素子の製造方法を提供する。【構成】 液晶層の充填空間を備えて前記支柱の形成のための井戸形の穴を有する溶解層5を形成する段階と、前記溶解層の上部に絶縁物質を塗布して前記井戸形の穴に充填された絶縁物質による支柱7と、前記支柱と一体として形成され前記溶解層の上部に所定厚さで形成される絶縁層6を形成する段階と、前記溶解層形成段階と前記絶縁層形成段階を交番的に反復実施して溶解層/絶縁層による多層積層を得る段階と、前記積層に所定直径の液晶注入孔9を多数形成し液晶注入孔を通じて前記溶解層を除去して前記絶縁層間に空洞部5′を形成する段階と、前記液晶注入孔を通じて前記空洞部に液晶を注入して液晶層を注入して液晶層を形成する段階を含む。
請求項（抜粋）：
対向された上・下部極群の間に電界効果型液晶層が備えられ、前記液晶層を多層化する多数の絶縁層が前記液晶層と交番積層形成されており、前記電気絶縁層の間には相互間隔を保たせる支柱が備えられた液晶表示素子を製造するにおいて、前記液晶層の充填空間を備えて前記支柱の形成のための井戸形の穴を有する溶解層を形成する段階と、前記溶解層の上部に絶縁物質を塗布して前記井戸形の穴に充填された絶縁物質による支柱と、前記支柱と一体として形成され前記溶解層の上部に所定厚さで形成される絶縁層を形成する段階と、前記溶解層形成段階と前記絶縁層形成段階を交番的に反復実施して溶解層/絶縁層による多層積層を得る段階と、前記積層に所定直径の液晶注入孔を多数形成し液晶注入孔を通じて前記溶解層を除去して前記絶縁層間に空洞部を形成する段階と、前記液晶注入孔を通じて前記空洞部に液晶を注入して液晶層を形成する段階を含むことを特徴とする液晶表示素子の多層液晶層製造方法。
IPC (2件)：
G02F 1/1347
, G02F 1/1333
