特許

J-GLOBAL ID：200903067971179409

真空処理装置

発明者： 辰巳 徹 ,  明田川 賢一 ,  人見 聡 ,  酒井 純朗
出願人/特許権者： 日本電気株式会社 ,  日電アネルバ株式会社
代理人 (1件)： 田宮 寛祉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-027406
公開番号（公開出願番号）：特開平6-220643
出願日： 1993年01月23日
公開日（公表日）： 1994年08月09日
要約：

【要約】【目的】 コールドウォール型真空処理装置において、処理基板の温度を、表面状態に関係なく変動のない所望の一定温度に保持すると共に、処理基板が所望の温度になるように精密な温度再現性を実現する。【構成】 減圧された内部空間に基板1が配置され、この基板1のみを、基板の一方の面側に配置された加熱器9で加熱すると共に、基板の他方の面を処理面とするように構成され、さらに、基板の他方の面側に輻射熱反射部材13を配置して、基板1を加熱器9と輻射熱反射部材13で挟む構造とし、かつ加熱器の温度を検出する温度検出器15を配置し、この温度検出器の検出信号に基づき基板の温度制御を行う帰還制御装置16を設ける。

請求項（抜粋）：

減圧された内部空間で、基板のみを、この基板の一方の面側に配置された加熱器で加熱し、前記基板の他方の面を処理する真空処理装置において、前記基板の前記他方の面側に輻射熱反射部材を設置すると共に、前記加熱器の温度を検出する温度検出器を配置し、この温度検出器の検出信号に基づき前記基板の温度を制御する帰還制御装置を設けることを特徴とする真空処理装置。

IPC (2件)：

C23C 16/52 ,  C23C 16/46

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開昭63-259081
  
• 特開昭64-081231
  
• 特開平3-255620
  

審査官引用 (4件)

• 特開平3-212300
  
• 特開昭63-259081
  
• 特開昭64-081231
  
• 特開平3-255620