特許

J-GLOBAL ID：200903067981521172

ポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物及びレジスト像の製造法

発明者： 加藤 幸治 ,  橋本 政弘 ,  粕谷 圭 ,  新井 唯 ,  逆水 登志夫
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社 ,  株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 高田 幸彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-007090
公開番号（公開出願番号）：特開2002-214765
出願日： 2001年01月15日
公開日（公表日）： 2002年07月31日
要約：

【要約】【課題】高感度、高解像度でパターン形状が良く、かつ、プロセス安定性に優れるポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物及びそれを用いた解像度の良好なレジスト像の製造法を提供する。【解決手段】(a)分子内に酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増す酸分解性基を有し、かつ、酸触媒反応により分子量が低下する化合物と、(b)活性化学線照射により酸を生じる化合物及び(c)沸点が80〜180°Cのエポキシ化合物を含有するポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物及びそれを用いて形成した塗膜を活性化学線で照射し、次いで現像するレジスト像の製造法。

請求項（抜粋）：

(a)分子内に酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増す酸分解性基を有し、かつ、酸触媒反応により分子量が低下する化合物と(b)活性化学線照射により酸を生じる化合物及び(c)沸点が80〜180°Cのエポキシ化合物を含有することを特徴とするポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (16件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB56 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17