特許

J-GLOBAL ID：200903067999864883

ポリオレフィンの製造方法

発明者： 井上 則英 ,  潮村 哲之助 ,  神野 政弘
出願人/特許権者： 三井東圧化学株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-138961
公開番号（公開出願番号）：特開平5-331227
出願日： 1992年05月29日
公開日（公表日）： 1993年12月14日
要約：

【要約】【構成】(A)一般式(ここで、A1 はシクロペンタジエニル基、インデニル基、フルオレニル基またはそれらの誘導体を示し、A2 は2置換フルオレニル基を示す。Mはチタン、ジルコニウム、ハフニウムである。)で表される遷移金属化合物および有機金属化合物を接触させることによって得られる反応生成物(B)アルミノキサン(C)微粒子状担体上記(A),(B),(C)から形成される固体触媒を有機アルミニウム化合物の存在下または不存在下に使用し、オレフィンおよび水素からなる気相中の水素分圧が0.01〜10%の範囲に有る条件下にオレフィンを重合することを特徴とするポリオレフィンの製造方法。【効果】ポリマーの重合機の壁への付着を防止し、パウダー性状の良好なポリオレフィンを効率的に製造することができる。

請求項（抜粋）：

(A)一般式〔I〕(化1)【化1】(ここで、A1 はシクロペンタジエニル基、インデニル基、フルオレニル基またはそれらの誘導体を示し、A2 は2置換フルオレニル基を示す。A3 ,A4 は炭素数1〜10までのアルキル基、炭素数6〜20までのアリール基、アルキルアリール基、アリールアルキル基、ハロゲン化アリール基または酸素、窒素、硫黄、珪素などのヘテロ原子を含む炭化水素基または水素原子である。QはA1 ,A2 を連結する炭素数1〜10までの炭化水素基または珪素、ゲルマニウム、錫を含む炭化水素基である。また、A3 ,A4 は互いに連結していてA3 ,A4 ,Qの間で環構造を形成していてもよい。R1 ,R2 はハロゲン原子、水素原子、炭素数1〜10までのアルキル基、炭素数6〜20までのアリール基、アルキルアリール基、アリールアルキル基を示す。Mはチタン、ジルコニウム、ハフニウムである。)で表される遷移金属化合物および有機金属化合物を接触させることによって得られる反応生成物(B)アルミノキサン(C)微粒子状担体から形成される固体触媒を、有機アルミニウム化合物の存在下または不存在下に使用し、オレフィンおよび水素からなる気相中の水素分圧が0.01〜10%の範囲に有る条件下にオレフィンを重合することを特徴とするポリオレフィンの製造方法。

IPC (2件)：

C08F 10/00 ,  C08F 4/642 MFG