特許

J-GLOBAL ID：200903068017027629

パターン位置測定装置、パターン位置測定方法、およびたわみ測定装置

発明者： 乙武 太朗
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 永井 冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-104973
公開番号（公開出願番号）：特開2000-292148
出願日： 1999年04月13日
公開日（公表日）： 2000年10月20日
要約：

【要約】【課題】パターン位置測定装置で基板の載置位置によるたわみの影響を除去する。【解決手段】基板10に生じるたわみに基づいた二次元誤差量〔ΔLx,ΔLy〕は、基板10が載置される位置(X,Y,ψ)ごとに有限要素法で算出され、記憶装置22に記憶される。基板10の載置位置は副対物レンズ16で検出され、基板10上のパターン位置は主対物レンズ11で検出される。主制御装置20は基板10の載置位置に基づいて、基板10が載置された位置(X,Y,ψ)で算出された二次元誤差量〔ΔLx,ΔLy〕を記憶装置22から読み出し、基板10上のパターン位置に基づいた二次元誤差量(ΔLx,ΔLy)でパターン位置を補正する。

請求項（抜粋）：

表面にパターンが形成された基板を載置する載置手段と、前記パターンを検出するパターン検出手段と、前記載置手段のXおよびY方向の位置を検出する載置手段位置検出手段と、前記載置手段上での前記基板の載置位置を検出する基板位置検出手段と、前記基板を前記載置手段上に載置したときに生じる基板のたわみに起因する補正量を前記基板の複数の載置位置ごとにそれぞれ記憶する記憶手段と、前記基板位置検出手段による基板位置検出値に基づいて前記記憶手段から前記補正量を読み出し、前記パターン検出手段と前記載置手段位置検出手段とに基づいて測定されたパターン位置をその補正量で補正する補正手段とを具備することを特徴とするパターン位置測定装置。

IPC (3件)：

G01B 21/00 ,  G01B 21/32 ,  G01B 11/00

FI (3件)：

G01B 21/00 D ,  G01B 21/32 ,  G01B 11/00 G

Fターム (44件)：

2F065AA02 ,  2F065AA03 ,  2F065AA06 ,  2F065AA12 ,  2F065AA14 ,  2F065AA54 ,  2F065BB01 ,  2F065CC18 ,  2F065DD06 ,  2F065EE00 ,  2F065FF04 ,  2F065FF41 ,  2F065FF48 ,  2F065FF52 ,  2F065GG04 ,  2F065HH04 ,  2F065JJ01 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ15 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL04 ,  2F065LL12 ,  2F065MM03 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ01 ,  2F065QQ23 ,  2F065TT02 ,  2F069AA03 ,  2F069AA64 ,  2F069BB15 ,  2F069BB40 ,  2F069CC06 ,  2F069DD15 ,  2F069DD25 ,  2F069EE20 ,  2F069GG07 ,  2F069GG59 ,  2F069GG65 ,  2F069GG68 ,  2F069HH09 ,  2F069JJ14 ,  2F069MM24 ,  2F069NN15